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<二氯丙烷脫氫裝置的分離工藝流程>
  

   對300kt/a二氯丙烷脫氫裝置的分離工藝流程采用Aspen Plus化工流程模擬軟件進行模擬,通過比較不同操作條件下各單元的模擬結果并分析各單元的能耗,確定急冷、壓縮、深冷分離、脫C2、丙炔加氫和丙烯精餾等單元的操作條件,考察了在已確定的操作條件下各分離單元的能耗。模擬結果表明,二氯丙烷脫氫分離工藝主要操作條件為:壓縮機出口壓力1.10 MPa、深冷分離溫度-95℃、脫乙烷塔操作壓力0.90 MPa、丙烯精餾塔頂操作壓力0.75 MPa,使用熱泵精餾塔;二氯丙烷脫氫分離工藝中,主要耗能單元是壓縮和深冷分離單元及丙烯精餾單元,其能耗分別占分離工藝總能耗的50.4%和35.6%,脫C2單元和急冷單元的能耗分別占總能耗的11.8%和2.2%。用離子交換法制備Ga改性ZSM-5雙功能催化劑,并結合XRD、SEM、BET、NH3-TPD、Py-IR及ICP、XPS等多種技術進行表征,考察分子篩硅鋁比(Si/Al)和催化劑氧化還原預處理條件對分子篩的酸性質、Ga物種的存在狀態及其二氯丙烷芳構化催化性能的影響。研究表明,硅鋁比不僅可以改變分子篩的酸性,也會影響分子篩中非骨架Ga物種與分子篩表面的相互作用程度,進而影響含Ga分子篩的二氯丙烷芳構化性能。在質量空速1.0h-1、反應溫度550℃下,Si/Al比為30的Ga-HZSM-5分子篩二氯丙烷轉化率和芳烴收率最高。Ga物種的引入可以提高二氯丙烷的轉化率和芳烴的選擇性,并抑制烷烴、烯烴的裂解。H2還原處理,將分子篩表面Ga2O3還原為低價的Ga+和GaH+2物種,促進了Ga物種向分子篩微孔遷移;還原-氧化處理后,Ga+和GaH+2物種氧化成GaO+,占據分子篩孔道離子交換位,顯著提高了催化劑的芳構化活性。yunshisz.com

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